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金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器(南京/杭州)|精品推薦

更新時間:2025-03-11點擊次數(shù):2224

 普拉勒金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器介紹  

一、產(chǎn)品概述  

普拉勒金剛石MPCVD氫氣發(fā)生器是一款專為金剛石薄膜制備設(shè)計的先進設(shè)備,采用微波等離子體化學(xué)氣相沉積(MPCVD)技術(shù),結(jié)合高效氫氣生成系統(tǒng),為金剛石生長提供穩(wěn)定、純凈的氫氣環(huán)境。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)、機械加工等領(lǐng)域,是高性能金剛石薄膜制備的理想選擇。
 

二、核心特點  

1. 高效氫氣生成  

1)采用先進的電解水技術(shù),高效生成高純度氫氣(純度≥99.999%),滿足金剛石薄膜制備的嚴格要求。  

2)氫氣產(chǎn)量穩(wěn)定,可根據(jù)實驗需求靈活調(diào)節(jié),確保實驗過程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。  

2. MPCVD技術(shù)優(yōu)勢  

1)微波等離子體技術(shù)提供均勻的高能量密度,促進金剛石薄膜的高質(zhì)量生長。  

2)等離子體環(huán)境可控性強,支持多種氣體混合,適應(yīng)不同金剛石薄膜的制備需求。  

3. 智能化控制  

1)配備先進的PLC控制系統(tǒng),實現(xiàn)氫氣流量、壓力、溫度等參數(shù)的精確控制。  

2)支持多段程序設(shè)定,自動化操作,減少人為干預(yù),提高實驗效率。  

4. 安全可靠  

1)配備多重安全保護功能,包括過壓保護、漏氣保護、過溫保護等,確保設(shè)備運行安全。  

2)采用防爆設(shè)計和優(yōu)質(zhì)材料,適應(yīng)高能量密度環(huán)境,延長設(shè)備使用壽命。  

三、技術(shù)參數(shù)  

1)氫氣純度:≥99.999%  

2)氫氣流量:0-1000 sccm(可調(diào))  

3)工作壓力:0.1-100 kPa(可調(diào))  

4)電源功率:3-5 kW  

5)冷卻方式:水冷/風(fēng)冷  

四、應(yīng)用領(lǐng)域  

1. 半導(dǎo)體行業(yè):用于制備高性能金剛石薄膜,提升半導(dǎo)體器件的散熱性能和電學(xué)性能。  

2. 光學(xué)領(lǐng)域:用于制備高透光率、高硬度的金剛石薄膜,應(yīng)用于光學(xué)窗口、激光器等。  

3. 機械加工:用于制備超硬金剛石涂層,提高刀具、模具的耐磨性和使用壽命。

 


 

TEL:13951716344

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